Number of the records: 1
Copper nitride thin films prepared by the RF plasma chemical reactor with low pressure supersonic single and multi-plasma jet system
SYS 0132837 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20200403114326.3 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a Copper nitride thin films prepared by the RF plasma chemical reactor with low pressure supersonic single and multi-plasma jet system 215 $a 6 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v 116-119, - (1999), s. 321-326 $1 210 $c Elsevier 700 -1
$3 cav_un_auth*0100523 $a Soukup $b Ladislav $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0036109 $a Šícha $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100198 $a Fendrych $b František $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100162 $a Chvostová $b Dagmar $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0016302 $a Šíchová $b H. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0040353 $a Valvoda $b V. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0036645 $a Tarasenko $b A. A. $y UA $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100536 $a Studnička $b Václav $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0063267 $a Wagner $b T. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100412 $a Novák $b Miloš $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1