Number of the records: 1
Plasma Polymers and Related Materials
SYS 0032087 LBL 02489^^^^^2200289^^^450 005 20240103182456.3 100 $a 20060422d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a TR 200 1-
$a Treatment of Organosilicon Thin Films by Exposure to Different O2 Based Plasma and Afterglow Conditions 215 $a 6 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0038759 $1 010 $a 975-491-194-0 $1 200 1 $a Plasma Polymers and Related Materials $i Thin Films by Exposure to Different O2 Based Plasma and Afterglow Conditions $v s. 53-58 $1 210 $a Ankara $c Hacettepe University Press $d 2005 541 1-
$a Plazmové leptání organokřemíkových tenkých vrstev modifikovaných za různých podmínek aktivního a rozpadajícího se plazmatu $z cze 610 0-
$a organosilicon 610 0-
$a PACVD 610 0-
$a PECVD 610 0-
$a RBS analysis 700 -1
$3 cav_un_auth*0086415 $a Supiot $b P. $y FR 701 -1
$3 cav_un_auth*0100958 $a Macková $b Anna $p UJF-V $w Research with Beams of Ions and Neutrons $4 070 $T Ústav jaderné fyziky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0216001 $a Vivien $b C. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0086417 $a Granier $b A. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0095860 $a Bousquet $b CH. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0216071 $a Boufayed $b F. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0216063 $a Escaich $b D. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0216072 $a Raynoad $b P. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0086410 $a Strýhal $b Z. $y CZ 702 -1
$3 cav_un_auth*0104037 $a Pavlík $b Josef $p ENTU-I $T Entomologický ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1