Number of the records: 1
RF Hollow Cathode Plasma Jet Deposition of Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. Films
SYS 0027161 LBL 02415^^^^^2200313^^^450 005 20240103181333.9 100 $a 20060329d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a RF Hollow Cathode Plasma Jet Deposition of BaxSr1-xTiO3 Films 215 $a 6 s. 463 -1
$1 010 $a 1-55899-823-3 $1 200 1 $a Materials, Integration and Technology for Monolithic Instruments $v D2.4.1-D2.4.6 $1 210 $a Pittsburgh $c Warendale, PA $d 2005 $1 225 $a Material Research Society Symposium Proc $v 869 $1 702 1 $a Theil $b A.J. $4 340 $1 702 1 $a Bohm $b M. $4 340 $1 702 1 $a Gardner $b S.D. $4 340 $1 702 1 $a Blalock $b T. $4 340 541 1-
$a Depozice vrstev BaxSr1-xTiO3 pomocí RF plasmové trysky $z cze 610 0-
$a BSTO thin films 610 0-
$a hollow cathode 610 0-
$a emission spectroscopy 700 -1
$3 cav_un_auth*0201402 $a Ianno $b N.J. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0039495 $a Soukup $b R. J. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100551 $a Šíchová $b Hana $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1