Number of the records: 1
Pole mikro-čoček
SYS 0602560 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20241210151427.1 100 $a 20241121d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Pole mikro-čoček 210 $d 2024 541 $a Micro lens array $z eng 610 $a e-beam lithography 610 $a reactive ion etching 610 $a two-photon lithography 610 $a diamond ruling 610 $a nanoimprint lithography 610 $a LED lights 610 $a UGR 700 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0301528 $a Chlumská $b Jana $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101553 $a Horáček $b Miroslav $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0050769 $a Zavřel $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0478488 $a Lobaz $b P. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0057188 $a Škereň $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0278610 $a Doleček $b Roman $p UFP-V $i TOPTEC $j TOPTEC $k TOPTEC $l TOPTEC $w TOPTEC $y CZ $4 070 $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0256628 $a Václavík $b Jan $p UFP-V $i TOPTEC $j TOPTEC $k TOPTEC $l TOPTEC $w TOPTEC $y CZ $4 070 $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0284710 $a Mokrý $b Pavel $p UFP-V $i TOPTEC $j TOPTEC $k TOPTEC $l TOPTEC $w TOPTEC $y CZ $4 070 $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1