Number of the records: 1
SMV-2023-61: Odměřovací systémy pro litografy
- 1.0580457 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Research Report
Mikel, Břetislav
SMV-2023-61: Odměřovací systémy pro litografy.
[SMV-2023-61: Measuring systems for lithographers.]
Brno: Raith GmbH, 2023. 3 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : laser source * measurement of lenght * laser interferometry
OECD category: Electrical and electronic engineering
Smluvní výzkum byl zaměřen na vývoj víceosých odměřovacích systémů využívajících nejpřesnější způsob měření na principu interference laserového záření. Základní referencí je laserový zdroj o vlnové délce 633 nm. Odměřovací systémy jsou určeny do zařízení vyžadující přesnost měření v řádech nanometrů.
The contract research was focused on the development of multi-axis measuring systems using the most accurate method of measurement based on the principle of laser radiation interference. The basic reference is a laser source with a wavelength of 633 nm. Measuring systems are intended for devices requiring measurement accuracy in the order of nanometers.
Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0349225
Number of the records: 1