Number of the records: 1
Спосіб одержання опромінених частинок
- 1.
SYSNO ASEP 0576732 Document Type P - Patent R&D Document Type Patent or other outcome protected by special legislation Title Спосіб одержання опромінених частинок Title Method of production of irradiated particles Author(s) Cígler, Petr (UOCHB-X) RID, ORCID
Havlík, Jan (UOCHB-X) RID
Hrubý, Martin (UMCH-V) RID, ORCID
Kučka, Jan (UMCH-V) RID, ORCIDYear of issue 2023 Possible third party use of the result A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Royalty requested A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Patent no. or utility model no. or industrial design no. UA127266 Date of the patent acceptance 28.06.2023 Name of the patent owner Ústav organické chemie a biochemie AV ČR v. v. i. - Ústav makromolekulární chemie AV ČR v. v. i Code of the issuer name UA001 - State Department of Intellectual Property Kyiv Current use A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Territorial Protection NEU - národní patent v zemi mimo EU
PCT - mezinárodní patentová ochrana dle Smlouvy o patentové spolupráciLanguage ukr - Ukrainian Keywords nanodiamond ; nitrogen vacancy centers ; irradiation OECD category Biochemistry and molecular biology R&D Projects LM2015064 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) Institutional support UOCHB-X - RVO:61388963 ; UMCH-V - RVO:61389013 Annotation Даний винахід стосується способу опромінення іонами основи у вигляді частинок, що включає стадії включення основи у вигляді частинок у тверду матрицю, що містить атоми 10B, та
піддавання матриці, одержаної на попередній стадії, опроміненню потоком нейтронів з одержанням твердої матиці, що включає опромінену основу у вигляді частинок. Спосіб за
даним винаходом надзвичайно ефективний та піддається масштабуванню. Він, зокрема, придатний для одержання опромінених наноалмазів та опромінених частинок SiC.Description in English The present invention relates to a process for ion irradiation of a particulate substrate, comprising the steps of: embedding particulate substrate in a solid matrix comprising 10B atoms, and exposing the matrix obtained in the previous step to a neutron flux, to give irradiated particulate substrate. The process of the invention is extremely effective and amenable to large scale. It is particularly suitable for producing irradiated nanodiamonds and irradiated SiC particles. Workplace Institute of Organic Chemistry and Biochemistry Contact asep@uochb.cas.cz ; Kateřina Šperková, Tel.: 232 002 584 ; Jana Procházková, Tel.: 220 183 418 Year of Publishing 2024 Electronic address https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/063273431/publication/UA127266C2?q=UA127266C2
Number of the records: 1