Number of the records: 1
Technologie výroby nelineárních fázových masek
- 1.
SYSNO 0575662 Title Technologie výroby nelineárních fázových masek Title The manufacturing process of apodized phase masks Author(s) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Fořt, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Mikel, Břetislav (UPT-D) RID, SAI
Helán, R. (CZ)
Urban, F. (CZ)Issue data 2023 Subspecies Ověřená technologie Int.Code APL-2023-03 Result owner Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Technical parameters Technologie pro výrobu nelineárních fázových masek pro vlnovou délku dopadajícího světla 248 nm pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání do materiálu fused silica. Přesnost zápisu periody mřížky je 0,1 nm, přesnost naladění hloubky mřížky je ±5 nm. Economic parameters Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz. Document Type Poloprovoz, ověřená technol., odrůda, plemeno Grant FW01010379 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR), CZ - Czech Republic Institutional support UPT-D - RVO:68081731 Language cze Country CZ Keywords apodized phase mask * e-beam lithography * reactive ion etching Permanent Link https://hdl.handle.net/11104/0345419
Number of the records: 1