Number of the records: 1
High deposition rate films prepared by reactive HiPIMS
- 1.
SYSNO 0567523 Název High deposition rate films prepared by reactive HiPIMS Tvůrce(i) Mareš, P. (CZ)
Dubau, M. (CZ)
Polášek, J. (CZ)
Mates, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID
Kozák, T. (CZ)
Vyskočil, J. (CZ)Zdroj.dok. Vacuum. Roč. 191, Sep (2021). - : Elsevier Číslo článku 110329 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760, XE - země EU EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika FV30177 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu StrategieAV21/6, CZ - Česká republika Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. GB Klíč.slova reactive magnetron sputtering * HiPIMS * Monte-carlo simulations * deposition rate * sputtering yield URL https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110329 Trvalý link https://hdl.handle.net/11104/0338777
Number of the records: 1