Number of the records: 1
Copper tungsten oxide (Cu.sub.x./sub.WO.sub.y./sub.) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering
SYS 0566773 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20231122151105.6 014 $a 85144137293 $2 SCOPUS 014 $a 000894517100001 $2 WOS 017 $a 10.1063/5.0123075 $2 DOI 100 $a 20230111d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a US 200 1-
$a Copper tungsten oxide (CuxWOy) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering 215 $a 13 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256872 $1 011 $a 0021-8979 $e 1089-7550 $1 200 1 $a Journal of Applied Physics $v Roč. 132, č. 21 (2022) $1 210 $c AIP Publishing 610 $a HiPIMS 610 $a sputtering 610 $a photoelectrochemical activity 610 $a FTO glass 610 $a film properties 700 -1
$3 cav_un_auth*0401938 $a Hrubantová $b Aneta $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0375512 $a Hippler $b Rainer $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $y DE $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257508 $a Wulff $b H. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0016216 $a Gedeon $b O. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0100265 $a Jiříček $b Petr $p FZU-D $i Optické materiály $j Optical Materials $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0237279 $a Houdková $b Jana $p FZU-D $i Optické materiály $j Optical Materials $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0397567 $a Nepomniashchaia $b Natalia $p FZU-D $i Optické a biofyzikální systémy $j Optical and Biophysical Systems $y RU $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0312744 $a Helm $b C.A. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $u https://hdl.handle.net/11104/0338068 $9 RIV
Number of the records: 1