0483401 - ÚPT 2018 RIV CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2017-06: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN, 2017. 6 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)

Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM).

Research and development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0278733