0468373 - ÚPT 2017 RIV CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Fořt, Tomáš - Oulehla, Jindřich - Šerý, Mojmír
SMV-2016-03: Přesné reliéfní struktury.
[SMV-2016-03: Precise relief structures.]
Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2016. 10 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers

Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a dalších ultra precizních mikrovýrobních technik.

Research and development in the field of precise relief structures using electron beam lithography and other ultra-precise micro manufacturing techniques.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0266242