Number of the records: 1
Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou
- 1.
SYSNO ASEP 0433910 Document Type J - Journal Article R&D Document Type Journal Article Subsidiary J Článek ve WOS Title Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou Title Scanning Probe Nanolithography Methods Author(s) Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAINumber of authors 5 Source Title Chemické listy. - : Česká společnost chemická - ISSN 0009-2770
Roč. 108, č. 10 (2014), s. 937-941Number of pages 5 s. Publication form Print - P Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords scanning probe lithography ; local anodic oxidation ; nanoscratching ; atomic force microscopy Subject RIV JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering R&D Projects LO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) UT WOS 000344829300003 Annotation Moderní průmysl a technologie neustále zvyšuje svoje požadavky na vytváření drobných struktur, jejichž rozměry jsou v nanometrovém rozlišení. Technika mikroskopie v blízkém poli, tedy i AFM (atomic force microscopy - mikroskopie atomárních sil) prodělala během posledních dvou desetiletí velký rozvoj, co se týká měření, ale i opracováním povrchů a vytváření různých nanostruktur. Byly vyvinuty různé techniky využívající zařízení AFM k přípravě struktur v nano rozměrech. Tyto techniky jsou označovány jako SPL (scanning probe lithography - litografie rastrující sondou) a jsou používány k vytváření nanostruktur a nanozařízení v různých materiálech (kovy, oxidy, polovodiče, ale také polymerní materiály). Lze jimi připravovat různé tvary od jednotlivých bodů, čar a mřížek až po 3D struktury s rozmněry od desítek až po stovky nanometrů. Takto připravené struktury pak mohou vykazovat zcela nové vlastnosti (např. větší katalytickou aktivitu) díky velkému poměru plochy k objemu těchto struktur. Zápis struktur v těchto rozměrech umožňuje dosáhnout vysoké hodnoty poměru jejich hustoty na jednotkovou plochu povrchu, čehož se dá využít k větší kapacitě uchovaných dat nebo ke zvětšení počtu senzorů na stejně velké ploše (např. v biomedicínských aplikacích). Description in English AFM (atomic force microscopy) nanolithography can be used for preparation of nanostructures in various fields such as nanodevices, nanoantenas and biosensors. Several methods of AFM nanolithography (local anodic, oxidation, electron resist exposure, dip pen nanolithography, and nanoscratching), their advantages and essential properties are described. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2015
Number of the records: 1