Number of the records: 1
Nanolitografie a kompenzace magnetického pole v prostředí s průmyslovým rušením
- 1.
SYSNO ASEP 0370933 Document Type J - Journal Article R&D Document Type Journal Article Subsidiary J Ostatní články Title Nanolitografie a kompenzace magnetického pole v prostředí s průmyslovým rušením Title Nanolithography and Magnetic Field Cancellation in the Industrial Area Author(s) Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, František (UPT-D) RID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RIDNumber of authors 5 Source Title Jemná mechanika a optika. - : Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - ISSN 0447-6441
Roč. 56, 11-12 (2011), s. 312-316Number of pages 5 s. Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords E-beam writer with a shaped beam ; magnetic field cancelling system ; electron optics column ; nanolithography ; nanotechnology Subject RIV JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering R&D Projects ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) FR-TI1/576 GA MPO - Ministry of Industry and Trade (MPO) CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) Annotation Příspěvek se zabývá výsledky dosaženými při litografických operacích s využitím elektronového litografu BS 600. Článek diskutuje zejména vliv rušení v běžném průmyslovém prostředí na parametry dosažitelné při tomto způsobu litografie. Za převažující rušivý projev je považováno proměnlivé elektromagnetické pole v kritické oblasti, tedy podél osy elektronového svazku zapisovacího zařízení. Prezentovány jsou mezní parametry realizovaných struktur ve dvou případech, jednak při dosavadním běžném uspořádání a jednak při využití systému pro aktivní kompenzaci magnetického pole. Autoři se domnívají, že zkušenosti a výsledky popsané v tomto příspěvku mohou významným způsobem pomoci při budování vědeckých i průmyslových laboratoří či provozů se zaměřením na litografii, mikroskopii i technologie obecně, a to při práci s objekty o rozměrech pod 100 nanometrů. Description in English The paper describes the results achieved by electron beam lithography when using an electron beam writer BS 600. The impacts of interference that are common in industrial areas are discussed. Electromagnetic field in the critical place i.e. along an electron beam axis is considered to be the predominant source of disturbances. An installation of a magnetic field cancelling system is described. The best resolution achievable in both cases (the magnetic field cancelling system being on or off) are presented. It is supposed that the results and experience described herein would be helpful when new laboratories and operations for nanotechnologies will be designed and built. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2012
Number of the records: 1