Number of the records: 1
Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system
SYS 0358552 LBL 02278^^^^^2200373^^^450 005 20240103195054.3 014 $a 000275435200020 $2 WOS 017 $a 10.1088/0022-3727/43/12/124019 $2 DOI 100 $a 20110325d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system 215 $a 7 s. 300 $a 124019 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257167 $1 011 $a 0022-3727 $e 1361-6463 $1 200 1 $a Journal of Physics D-Applied Physics $v Roč. 43, č. 12 (2010), s. 1-7 $1 210 $c Institute of Physics Publishing 610 0-
$a plasma 610 0-
$a pulsed DC 610 0-
$a ion flux 610 0-
$a hollow cathode 700 -1
$3 cav_un_auth*0098250 $a Virostko $b Petr $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070 856 $u http://stacks.iop.org/JPhysD/43/124019
Number of the records: 1