Structure of mixed-phase Si films studied by C-AFM and X-TEM

0341955 - FZÚ 2010 RIV GB eng J - Journal Article
Mates, Tomáš - Bronsveld, P.C.P. - Fejfar, Antonín - Rezek, Bohuslav - Kočka, Jan - Rath, J.K. - Schropp, R.E.I.
Structure of mixed-phase Si films studied by C-AFM and X-TEM.
[Struktura smíšené fáze tenkých křemíkových vrstev studovaná pomocí vodivostního AFM a průřezového TEM.]
Journal of Physics: Conference Series. Roč. 61, - (2007), s. 790-794. ISSN 1742-6588. E-ISSN 1742-6596
R&D Projects: GA MŽP(CZ) SN/3/172/05
Keywords : microcrystalline silicon * conductive AFM * cross-sectional TEM
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism

Thin Si films prepared at low temperature and containing microcrystalline grains in amorphous tissue were studied by two complementary microscopy techniques - conductive AFM and cross-sectional TEM.

Tenké křemíkové vrstvy připravené za nízkých teplot a obsahující mikrokrystalická zrna v amorfní fázi byly studovány pomocí dvou doplňujících se mikroskopických technik - vodivostního AFM a průřezového TEM.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0184793