Number of the records: 1
Influence of nuclation parameters on growth of diamond thin films by hybrid hot filament CVD
- 1.
SYSNO ASEP 0134420 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Influence of nuclation parameters on growth of diamond thin films by hybrid hot filament CVD Tvůrce(i) Kromka, A. (SK)
Daniš, T. (SK)
Balon, D. (SK)
Janík, J. (SK)
Vaněček, Milan (FZU-D) RIDZdroj.dok. Diamond and Related Materials. - : Elsevier - ISSN 0925-9635
Roč. 12, - (2003), s. 356-360Poč.str. 5 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova diamond ; hot filament CVD ; nucleation Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Anotace Diamond thin films have been deposited using a modified hot filament CVD method involving a dual-plasma reactor arrangement. This new design allows ignition of d.c. plasma above and/or below hot filaments. Thus, substrate bombardement by ions could be realized in the reverse biasing at as low voltages as 50V. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2004
Number of the records: 1