Ito, M. - Ro, K. - Yoneyama, S. - Ito, Y. - Uyama, H. - Mates, Tomáš - Ledinský, Martin - Luterová, Kateřina - Fojtík, Petr - Stuchlíková, The-Ha - Fejfar, Antonín - Kočka, Jan
Silicon thin films deposited at very low substrate temperatures.
Thin Solid Films. Roč. 442, - (2003), s. 163-166. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Impakt faktor: 1.598, rok: 2003
http://hdl.handle.net/11104/0032317