Number of the records: 1
Polycrystalline silicon thin films produced by interference laser crystallization of amorphous silicon
- 1.
SYSNO ASEP 0132391 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Polycrystalline silicon thin films produced by interference laser crystallization of amorphous silicon Tvůrce(i) Rezek, Bohuslav (FZU-D) RID, ORCID
Nebel, C. E. (DE)
Stutzmann, M. (DE)Zdroj.dok. Japanese Journal of Applied Physics. - : Institute of Physics Publishing - ISSN 0021-4922
Roč. 38, - (1999), s. 1083-1084Poč.str. 2 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. JP - Japonsko Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GA202/98/0669 GA ČR - Grantová agentura ČR IAA1010809 GA AV ČR - Akademie věd Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2000
Number of the records: 1