Number of the records: 1
An ellipsometric study of Ni, Mo and NixN films deposited on Si
SYS 0131678 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20210803154947.2 101 0-
$a eng 102 $a NL 200 1-
$a An ellipsometric study of Ni, Mo and NixN films deposited on Si 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257662 $1 011 $a 0040-6090 $e 1879-2731 $1 200 1 $a Thin Solid Films $v 313-314, - (1998), s. 314-318 $1 210 $c Elsevier 700 -1
$3 cav_un_auth*0036645 $a Tarasenko $b A. A. $y UA $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100162 $a Chvostová $b Dagmar $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101620 $a Sobota $b Jaroslav $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 702 -1
$3 cav_un_auth*0036103 $a Novák $b J. $4 340
Number of the records: 1