0105749 - UMCH-V 20043319 RIV FR eng C - Conference Paper (international conference)
Meszároš, Oto - Schmidt, Pavel - Pospíšil, Jan - Nešpůrek, Stanislav - Combellas, F. - Kajzar, F.
Photooxidation of poly[methyl(phenyl)silylene] and effect of photostabilizers.
[Vliv fotostabilizátorů na fotooxidaci poly[methyl(fenyl)silylenu].]
Modest 2004. Lyon: University of Claude Bernard, 2004, ---.
[International Conference on Modification, Degradation, Stabilization Conference /3./. Lyon (FR), 29.08.2004-02.09.2004]
R&D Projects: GA MŠMT ME 700; GA MŠMT OC D14.30
Institutional research plan: CEZ:AV0Z4050913
Keywords : polysilylenes * photooxidation
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism

Life-time of poly[methyl(phenyl)silylene] under xenon irradiation in air atmosphere was prolonged using a combination of UV absorvers and hindered amine stabilizers (HAS).

Životnost poly[methyl(fenyl)silylenu] ozařovaného xenonovou lampou v atmosféře vzduchu byla proudloužena použitím kombinací UV absorbérů a stabilizátorů na bázi stíněných aminů (HAS).
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0012952