Number of the records: 1
IR Laser Decomposition of 1,3-Disilacyclobutane in Presence of Carbon Disulfide: Chemical Vapour Deposition of Polythiacarbosilane
SYS 0104840 LBL 02051^^^^^2200277^^^450 005 20210803154543.4 100 $a 20050425d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng $d eng 102 $a US 200 1-
$a IR Laser Decomposition of 1,3-Disilacyclobutane in Presence of Carbon Disulfide: Chemical Vapour Deposition of Polythiacarbosilane 215 $a 5 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257063 $1 011 $a 0022-328X $e 1872-8561 $1 200 1 $a Journal of Organometallic Chemistry $v Roč. 689, č. 16 (2004), s. 2697-2701 $1 210 $c Elsevier 541 1-
$a IČ laserový rozklad 1,3-disilacyklobutanu v přítomnosti sirouhlíku: chemická deposice polythiakarbosilanu z plynné fáze $z cze 610 0-
$a laser 610 0-
$a polythiacarbosilane 610 0-
$a chemical vapor deposition 700 -1
$3 cav_un_auth*0103391 $a Urbanová $b Markéta $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103332 $a Pola $b Josef $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1