XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films

Number of the records: 1

SYSNO	0100134
Název	XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films
Překlad názvu	Využití výtěžku fotoelektronů buzených čarou He II a rtg zářením ke studiu procesu aktivace Ti-Zr nevypařovaných tenkých vrstev
Tvůrce(i)	Zemek, Josef (FZU-D)_{RID, ORCID} Jiříček, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Vacuum. Roč. 71, - (2003), s. 329-333. - : Elsevier
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
CEZ	AV0Z1010914 - FZU-D
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	GB
Klíč.slova	non-evaporable getters * Ti-Zr alloys * XPS * photoelectron yield * activation process * oxide reduction
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0007640

Number of the records: 1