Number of the records: 1  

Elektronová litografie pro nanotechnologie

  1. 1.
    0026426 - FZÚ 2006 RIV CZ cze J - Journal Article
    Výborný, Zdeněk
    Elektronová litografie pro nanotechnologie.
    [Electron beam lithography for nanotechnology.]
    Jemná mechanika a optika. Roč. 50, 11-12 (2005), s. 313-318. ISSN 0447-6441
    Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100521
    Keywords : lithography * photolithography * electron beam lithography * EBL * nanolithography * nanotechnology * SEM
    Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism

    Byly rozpracovány a aplikovány koncepce zařízení EBL od jednoduchých sestav pro laboratorní užití až po průmyslové aparatury pro výrobu fotolitografických masek. Jejich optimální výběr závisí na zaměření pracoviště, jeho výbavě a na vlastnostech zpracovávaných vzorků. Kupříkladu pro badatelské pracoviště orientované na výzkum nanostruktur a jejich diagnostiku je vhodným řešením sestava EBL založená na špičkovém rastrovacím elektronovém mikroskopu (SEM) doplněném o litografický řídicí systém a o přesný stolek s posuvy řízenými laserovými interferometry

    Several construction types of EBL have been developed and applied from the simplest one based on a laboratory SEM microscope combined with a lithographic attachment up to sophisticated machines for photomasks industrial production. The optimal choice of an EBL apparatus depends on the character of the laboratory, its other equipment and on the types of the samples under research or development. For example an „E-Beam turnkey-solution“ apparatus based on a top SEM together with an optical pattern generator control unit plus laser-interferometer-controlled stage is a good choice for a laboratory specialized in the research of nanostructures technology and diagnostics
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0116677
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.