Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky

0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
[Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
Internal code: APL-2021-04 ; 2021
Technical parameters: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : electron beam lithography * photomask
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)

Speciální foto maska sestává ze dvou odlišných sad obrazců realizovaných odlišnými technologickými postupy. Celá sestava masky je navržena tak, aby vykazovala definovanou kombinaci optických vlastností.

The special photo mask consists of two different sets of patterns realized by different technological procedures. The entire mask assembly is designed to perform a defined combination of optical features.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321586