Number of the records: 1
Enhanced oxidation of TiO.sub.2./sub. films prepared by high power impulse magnetron sputtering running in metallic mode
SYS 0486984 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103215640.2 014 $a 85014857019 $2 SCOPUS 014 $a 000400623700016 $2 WOS 017 70
$a 10.1063/1.4977825 $2 DOI 100 $a 20180221d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Enhanced oxidation of TiO2 films prepared by high power impulse magnetron sputtering running in metallic mode 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256872 $1 011 $a 0021-8979 $e 1089-7550 $1 200 1 $a Journal of Applied Physics $v Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9 $1 210 $c AIP Publishing 608 $a Article 610 $a sputter deposition 610 $a plasma deposition 610 $a gas discharges 610 $a metallic thin films 610 $a probe plasma diagnostics 700 -1
$3 cav_un_auth*0221302 $a Straňák $b V. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0044342 $4 070 $a Kratochvíl $b J. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0358493 $4 070 $a Sezemsky $b P. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1