Number of the records: 1  

Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent

  1. 1.
    SYSNO ASEP0485925
    Document TypeL - Prototype, Functional Specimen
    R&D Document TypePrototype, Functional Specimen
    RIV SubspeciesFunctional Specimen
    TitlePlazmová aparatura pro povlakování dutých komponent
    TitlePlasmatic system for coatings of hollow substrates
    Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
    Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
    Klinger, Miloslav (FZU-D) ORCID
    Year of issue2017
    Int.CodeFVG1/FZU/2017
    Technical parametersGenerace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
    Economic parametersPlazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
    Owner NameFyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    Registration Number of the result owner68378271
    Applied result category by the cost of its creationA - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Use by another entityA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    License fee feeA - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    Keywordssputtering ; thin films ; plasma ; deposition ; hollow cathode
    Subject RIVBL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OECD categoryFluids and plasma physics (including surface physics)
    R&D ProjectsTG02010056 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271
    AnnotationV rámci řešení projektu TAČR GAMA jsme vyvinuli plasmatický systém pro depozici tenkých vrstev do dutých substrátů.
    Description in EnglishPlasmatic deposition system was developed as a result of TACR project for deposition of thin films into hollow substrates.
    WorkplaceInstitute of Physics
    ContactKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Year of Publishing2018
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.