Number of the records: 1  

SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM

  1. 1.
    SYSNO ASEP0483401
    Document TypeV - Research Report
    R&D Document TypeV - Research Report
    TitleSMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM
    TitleSMV-2017-06: Development of test specimens for SEM
    Author(s) Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Knápek, Alexandr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Number of authors8
    Issue dataBrno: TESCAN, 2017
    Number of pages6 s.
    Publication formPrint - P
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    Keywordsrelief structure ; e-beam lithography ; silicon etching ; microlithography
    Subject RIVBH - Optics, Masers, Lasers
    OECD categoryNano-processes (applications on nano-scale)
    Next sourceNon-public resources
    AnnotationVývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM).
    Description in EnglishResearch and development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy.
    WorkplaceInstitute of Scientific Instruments
    ContactMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Year of Publishing2018
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.