Number of the records: 1
SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM
- 1.
SYSNO ASEP 0483401 Document Type V - Research Report R&D Document Type V - Research Report Title SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM Title SMV-2017-06: Development of test specimens for SEM Author(s) Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Knápek, Alexandr (UPT-D) RID, ORCID, SAINumber of authors 8 Issue data Brno: TESCAN, 2017 Number of pages 6 s. Publication form Print - P Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords relief structure ; e-beam lithography ; silicon etching ; microlithography Subject RIV BH - Optics, Masers, Lasers OECD category Nano-processes (applications on nano-scale) Next source Non-public resources Annotation Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Description in English Research and development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2018
Number of the records: 1