Number of the records: 1
SMV-2016-03: Přesné reliéfní struktury
- 1.
SYSNO ASEP 0468373 Document Type V - Research Report R&D Document Type V - Research Report Title SMV-2016-03: Přesné reliéfní struktury Title SMV-2016-03: Precise relief structures Author(s) Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Fořt, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Oulehla, Jindřich (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAINumber of authors 10 Issue data Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2016 Number of pages 10 s. Publication form Print - P Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords relief structure ; e-beam lithography ; silicon etching ; microlithography Subject RIV BH - Optics, Masers, Lasers Next source Non-public resources Annotation Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a dalších ultra precizních mikrovýrobních technik. Description in English Research and development in the field of precise relief structures using electron beam lithography and other ultra-precise micro manufacturing techniques. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2017
Number of the records: 1