Number of the records: 1

Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely

SYSNO ASEP	0371285
Document Type	L - Prototype, Functional Specimen
R&D Document Type	Prototype, Functional Specimen
RIV Subspecies	Functional Specimen
Title	Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely
Title	Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes
Author(s)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Straňák, Vítězslav (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Jastrabík, Lubomír (FZU-D)_{RID, ORCID} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Dejneka, Alexandr (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2011
Int.Code	FS1/FZÚ/2011
SResult web page, Location of the result	Sekce optika, Oddělení nízkoteplotního plazmatu, FZÚ AV ČR, v. v. i.
Technical parameters	Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
Economic parameters	Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Owner Name	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Registration Number of the result owner	68378271
Applied result category by the cost of its creation	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
License fee fee	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	sputtering ; optical thin films ; plasma ; deposition ; magnetron ; hollow cathode
Subject RIV	BH - Optics, Masers, Lasers
R&D Projects	TA01010517 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
CEZ	AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
Annotation	V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli hybridní plazmatický systém se dvěma magnetrony a systémem duté katody, který je určen pro pulzní HIPIMS+MF reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
Description in English	Hybrid plasmatic system was developed in frame of grant TACR. The system contains two magnetrons and the hollow cathode system for HIPIMS+MF reactive sputtering of optical thin films. The system is suitable for research purposes.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2012

Number of the records: 1