Mass spectrometry of plasma processes during reactive DC pulsedmagnetron sputtering

0338238 - FZÚ 2010 DE eng A - Abstract
Bulíř, Jiří - Pokorný, Petr - Novotný, Michal - Mišina, Martin - Lančok, Ján - Musil Jr., Jindřich
Mass spectrometry of plasma processes during reactive DC pulsedmagnetron sputtering.
[Hmotnostní spektroskopie plazmatických procesů při DC pulzním reaktivním magnetronovém naprašování.]
PSE 2008 - Abstracts. Dresden: European Joint Committee on Plasma and Ion Surface Engineering, 2009. s. 408.
[International Conference on Plasma Surface Engineering /11./. 15.09.2008-19.09.2008, Garmisch Partenkirchen]
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100522
Keywords : magnetron sputtering * mass spectroscopy * alumina
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers

Analysis of plasma in pulse reactive magnetron sputtering system by mass spectroscopy. Target voltage controlled satbilization of the magnetron discharge in a transition mode. Understanding of sputtering mechanism in transition sputtering mode. Deposition and analysis of alumina coatings in transition sputtering mode.

Analýza plazmatu při pulsním reaktivním magnetronovém naprašování pomocí hmotnostní spektroskopie. Stabilizace magnetronového výboje v přechodovém módu pomocí napětí. Popis mechanismů naprašování v přechodovém módu, příprava a studium vlastností Al2O3 vrstev.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0182070