Number of the records: 1
Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge
SYS 0573076 005 20240402214103.1 014 $a 85161561200 $2 SCOPUS 014 $a 000999940400001 $2 WOS 017 70
$a 10.1088/1361-6595/acd5fc $2 DOI 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge 215 $a 12 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0254752 $1 011 $a 0963-0252 $e 1361-6595 $1 200 1 $a Plasma Sources Science & Technology $v Roč. 32, č. 5 (2023) $1 210 $c Institute of Physics Publishing 608 $a Article 610 $a high power impulse magnetron sputtering 610 $a reactive mode 610 $a pulse length dependence 610 $a ion composition 610 $a optical emission spectroscopy 700 -1
$3 cav_un_auth*0375512 $a Hippler $b Rainer $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $y DE $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0457100 $a Mutzke $b A. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $u https://hdl.handle.net/11104/0346388 $9 RIV
Number of the records: 1