Number of the records: 1
High rate deposition of photoactive TiO.sub.2./sub. films by hot hollow cathode
- 1.
SYSNO 0524998 Title High rate deposition of photoactive TiO2 films by hot hollow cathode Author(s) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Kohout, Michal (FZU-D) RID, ORCID
Perekrestov, Roman (FZU-D)
Tvarog, D. (CZ)
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Kmentová, H. (CZ)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAICorespondence/senior Olejníček, Jiří - Korespondující autor
Šmíd, Jiří - Korespondující autor
Čada, Martin - Korespondující autor
Kšírová, Petra - Korespondující autor
Kohout, Michal - Korespondující autor
Perekrestov, Roman - Korespondující autor
Kment, Štěpán - Korespondující autor
Hubička, Zdeněk - Korespondující autorSource Title Surface and Coatings Technology. Roč. 383, Feb (2020), s. 1-10. - : Elsevier Article number 125256 Document Type Článek v odborném periodiku Grant CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760, XE - EU countries EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS), CZ - Czech Republic CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_013/0001406, XE - EU countries EF16_013/0001406 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) GA17-20008S GA ČR - Czech Science Foundation (CSF) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Language eng Country CH Keywords TiO2 * hollow cathode discharge * sputtering * thermal evaporation * deposition rate URL https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.125256 Permanent Link http://hdl.handle.net/11104/0309201
Number of the records: 1