Number of the records: 1  

High rate deposition of photoactive TiO.sub.2./sub. films by hot hollow cathode

  1. 1.
    SYSNO0524998
    TitleHigh rate deposition of photoactive TiO2 films by hot hollow cathode
    Author(s) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Šmíd, Jiří (FZU-D)
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
    Kohout, Michal (FZU-D) RID, ORCID
    Perekrestov, Roman (FZU-D)
    Tvarog, D. (CZ)
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Kmentová, H. (CZ)
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Corespondence/seniorOlejníček, Jiří - Korespondující autor
    Šmíd, Jiří - Korespondující autor
    Čada, Martin - Korespondující autor
    Kšírová, Petra - Korespondující autor
    Kohout, Michal - Korespondující autor
    Perekrestov, Roman - Korespondující autor
    Kment, Štěpán - Korespondující autor
    Hubička, Zdeněk - Korespondující autor
    Source Title Surface and Coatings Technology. Roč. 383, Feb (2020), s. 1-10. - : Elsevier
    Article number125256
    Document TypeČlánek v odborném periodiku
    Grant CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760, XE - EU countries
    EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS), CZ - Czech Republic
    CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_013/0001406, XE - EU countries
    EF16_013/0001406 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
    GA17-20008S GA ČR - Czech Science Foundation (CSF)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271
    Languageeng
    CountryCH
    Keywords TiO2 * hollow cathode discharge * sputtering * thermal evaporation * deposition rate
    URLhttps://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.125256
    Permanent Linkhttp://hdl.handle.net/11104/0309201
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.