Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem

0500350 - FZÚ 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Fitl, P. - Vrňata, M. - Bodnár, M. - Lančok, Ján
Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem.
[Deposition system for preparation of thin films by RF discharge plasma polymerization.]
Internal code: Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem ; 2018
Technical parameters: Mezní tlak 10E-3 Pa, pracovní tlak 5 Pa, RF výkon 20 W, RF frekvence 13,56 MHz
Economic parameters: Vytvoření nové technologie výroby, zvýšení adaptability produktů, zlepšení postavení firmy na trhu.
R&D Projects: GA MPO FV20350; GA MŠMT(CZ) LO1409
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : chemical gas sensor * plasma polymerization * magnetron sputtering
OECD category: Electrical and electronic engineering

Funkční vzorek „Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem“ vznikl v rámci spolupráce Fyzikálního ústavu, AVČR, v.v.i., Vysoké školy chemicko-technologické v Praze a Tesla Blatná a.s. na projektu FV20350, „Chemirezistory na bázi nanokompozitních vrstev pro detekci plynů“. Jeho předmětem je depoziční zařízení pro nanášení povlaků citlivých vrstev pro chemické senzory plynu. Jednalo by se především o povlaky acetylacetonátu cínu s příměsí oxidů kovů, především oxidu cíničitého. Zařízení funguje na principu magnetronového naprašování s následnou plazmatickou polymerizací odprášených molekul. Vlastní zařízení se skládá z depoziční komory, čerpacího vakuového systému a elektrického RF generátoru pro spuštění plazmatického výboje. Vakuová komora je řešena pomocí odnímatelného skleněného zvonu s mezním tlakem 10E-3 Pa. Vlastní terč je řešen nalisováním směsi práškového acetylacetonátu s oxidy kovů na měděný podklad. Zdrojem plazmatického výboje je radiofrekvenční výkonový zdroj na frekvenci 13,56 MHz.

Functional sample ”Deposition system for preparation of thin films by RF discharge plasma polymerization“ was developed in frame of collaboration FZÚ AVČR, VŠCHT a Tesla Blatná within the project FV20350, Chemiresistors Based on Nanocomposite Layers for Gas Detection. It is a deposition system for preparation of coatings of sensitive films for chemical gas sensors. The coatings are based on tin acetylacetonate with additive metal oxides, ie. tin oxide. The system works as magnetron sputtering with consequent plasma polymerization of sputtered molecules. The system consists of deposition chamber, pumping vacuum system and RF generator for ignition of plasma discharge. Vacuum chamber is designed as removable glass cylinder of ultimate pressure 10E-3 Pa. The target is prepared by compressing the mixture of acetylacetonate powder with metal oxides on a cooper plate. RF power generator of frequency of 13.56 MHz is used to maintain the plasma discharge.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0292441