Number of the records: 1

Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny

SYSNO ASEP	0462264
Document Type	P1 - Utility model, Industrial Design
R&D Document Type	Results of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design)
RIV Subspecies	Užitný vzor
Title	Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny
Title	Radio-frequency apparatus for measuring plasma parameters by making use of wave resonance of electron cyclotron wave
Author(s)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Straňák, Vítězslav (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2016
Name of the patent owner	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Adress	Praha 8, Na Slovance 2
Date of the utility model acceptance	07.06.2016
Utility model number	29519
Licence fee	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Current use	A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Code of the issuer name	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Language	cze - Czech
Keywords	ECWR ; low-temprature plasma ; thin film ; plasma density ; plasma deposition
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
OECD category	Fluids and plasma physics (including surface physics)
R&D Projects	TA03010743 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Annotation	Předkládaným technickým řešením se dosahuje nového a vyššího účinku v tom, že popsaným způsobem měření s využitím znázorněné aparatury je možné pomocí identifikace vlnové ECWR rezonance výhradně určit v měřícím prostoru páskového závitu parametry depozičního plazmatu, a to zejména koncentraci elektronů
Description in English	Present technical solution brings a new and higher effect, that described measurement using the apparatus shown it is possible by identifying the resonance wavelength ECWR exclusively in the measuring chamber to determine in the tape thread depositing plasma parameters, especially the concentration of electrons.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2017
Electronic address	https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029519.pdf

Number of the records: 1