Number of the records: 1

Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů

SYSNO ASEP	0448124
Document Type	P1 - Utility model, Industrial Design
R&D Document Type	Results of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design)
RIV Subspecies	Užitný vzor
Title	Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů
Title	Hybrid plasma nozzle with surface wave for exciting extremely reactive discharges
Author(s)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Straňák, Vítězslav (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Kromka, Alexander (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Year of issue	2015
Name of the patent owner	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i
Adress	Praha 8, Na Slovance 2
Date of the utility model acceptance	14.07.2015
Utility model number	28463
Licence fee	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Current use	A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Code of the issuer name	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Language	cze - Czech
Keywords	sufatron ; plasma technology ; discharge plasma
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
OECD category	Fluids and plasma physics (including surface physics)
R&D Projects	LH12045 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
	TA03010743 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Annotation	Technické řešení spadá do oblasti generace nízkoteplotních plazmových výbojů za účelem jejich následného využití v technologických aplikacích. Jedná se zejména o depozice funkčních tenkých vrstev s využitím plazma chemických reakcí v aktivní zóně generovaného výboje. Oblast řešení je zaměřena na konstrukci plazmové trysky využívající pro buzení plazmatu povrchovou vlnu, která umožňuje generování výbojů s velkou koncentrací reaktivních plynů, např. O2, N2, H2, C2H2, CH4 a dalších, a to v širokém rozsahu tlaků.
Description in English	Technical solutions belong to area of generation of low-temperature plasma discharges for technological application. It is namely thin film deposition using plasma-chemical reaction in active area of generated discharge. Solution is focused on construction of plasma nozzle using surface wave for plasma excitation that enables generation of discharges with high concentration of reactive gases like O2, N2, H2, C2H2, CH4 and others in a wide range of pressure.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2016
Electronic address	https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0028/uv028463.pdf

Number of the records: 1