Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano

Number of the records: 1

1.

SYSNO	0429848
Title	Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano
Title	Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device
Author(s)	Urbánek, Michal (UPT-D)_RID Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Matějka, Milan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Horáček, Miroslav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI}
Source Title	Chemické listy. Roč. 108, č. 6 (2014), s. 592-595. - : Česká společnost chemická
Document Type	Článek v odborném periodiku
Grant	LO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS), CZ - Czech Republic
Language	cze
Country	CZ
Keywords	plasmochemical etching * silicon * etching rate * selectivity
Permanent Link	http://hdl.handle.net/11104/0234865

Number of the records: 1