Number of the records: 1
Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano
SYS 0429848 LBL 02834^^^^^2200397^^^450 005 20240103204427.9 014 $a 000344828700006 $2 WOS 014 $a 84904768231 $2 SCOPUS 100 $a 20141215d m y slo 03 ba 101 0-
$a cze $d cze 102 $a CZ 200 1-
$a Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano 215 $a 4 s. 300 $a DOI nezjištěno 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0290103 $1 011 $a 0009-2770 $e 1213-7103 $1 200 1 $a Chemické listy $v Roč. 108, č. 6 (2014), s. 592-595 $1 210 $c Česká společnost chemická 541 1-
$a Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device $z eng 610 0-
$a plasmochemical etching 610 0-
$a silicon 610 0-
$a etching rate 610 0-
$a selectivity 700 -1
$3 cav_un_auth*0223246 $a Urbánek $b Michal $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0258195 $a Matějka $b Milan $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101553 $a Horáček $b Miroslav $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1