Number of the records: 1  

Nucleation and growth of metal-catalyzed silicon nanowires under plasma

  1. SYS0539179
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20240103225345.3
    014
      
    $a 85082094165 $2 SCOPUS
    014
      
    $a 000521482000001 $2 WOS
    017
    70
    $a 10.1088/1361-6528/ab76ef $2 DOI
    100
      
    $a 20210204d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a GB
    200
    1-
    $a Nucleation and growth of metal-catalyzed silicon nanowires under plasma
    215
      
    $a 11 s.
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0254430 $1 011 $a 0957-4484 $e 1361-6528 $1 200 1 $a Nanotechnology $v Roč. 31, č. 22 (2020), s. 1-11 $1 210 $c Institute of Physics Publishing
    608
      
    $a Article
    610
      
    $a nanowire
    610
      
    $a silicon
    610
      
    $a growth mechanism
    610
      
    $a catalyst
    610
      
    $a plasma
    610
      
    $a PECVD
    610
      
    $a nucleation
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0294089 $a Hývl $b Matěj $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0287362 $a Müller $b Martin $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100534 $a Stuchlíková $b The-Ha $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100533 $a Stuchlík $b Jiří $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0388731 $a Šilhavík $b Martin $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100295 $a Kočka $b Jan $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100196 $a Fejfar $b Antonín $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0258696 $a Červenka $b Jiří $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $y CZ $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    856
      
    $u https://doi.org/10.1088/1361-6528/ab76ef $9 RIV
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.