Number of the records: 1
Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent
- 1.
SYSNO 0485925 Title Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent Title Plasmatic system for coatings of hollow substrates Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Klinger, Miloslav (FZU-D) ORCIDIssue data 2017 Subspecies Functional Specimen Int.Code FVG1/FZU/2017 Technical parameters Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm. Economic parameters Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent. Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Document Type Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TG02010056 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR), CZ - Czech Republic Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Language cze Country CZ Keywords sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode Permanent Link http://hdl.handle.net/11104/0280842
Number of the records: 1