Number of the records: 1
Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny
- 1.
SYSNO ASEP 0462264 Document Type P1 - Utility model, Industrial Design R&D Document Type Results of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design) RIV Subspecies Užitný vzor Title Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny Title Radio-frequency apparatus for measuring plasma parameters by making use of wave resonance of electron cyclotron wave Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCIDYear of issue 2016 Name of the patent owner Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Adress Praha 8, Na Slovance 2 Date of the utility model acceptance 07.06.2016 Utility model number 29519 Licence fee A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Current use A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Use by another entity A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Code of the issuer name CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Language cze - Czech Keywords ECWR ; low-temprature plasma ; thin film ; plasma density ; plasma deposition Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics OECD category Fluids and plasma physics (including surface physics) R&D Projects TA03010743 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation Předkládaným technickým řešením se dosahuje nového a vyššího účinku v tom, že popsaným způsobem měření s využitím znázorněné aparatury je možné pomocí identifikace vlnové ECWR rezonance výhradně určit v měřícím prostoru páskového závitu parametry depozičního plazmatu, a to zejména koncentraci elektronů Description in English Present technical solution brings a new and higher effect, that described measurement using the apparatus shown it is possible by identifying the resonance wavelength ECWR exclusively in the measuring chamber to determine in the tape thread depositing plasma parameters, especially the concentration of electrons. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2017 Electronic address https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029519.pdf
Number of the records: 1