Number of the records: 1  

Souřadnicový interferometrický systém pro odměřování polohy vzorku elektronového litografu

  1. 1.
    0449271 - ÚPT 2016 RIV CZ cze C - Conference Paper (international conference)
    Holá, Miroslava - Lazar, Josef - Čížek, Martin - Řeřucha, Šimon - Číp, Ondřej
    Souřadnicový interferometrický systém pro odměřování polohy vzorku elektronového litografu.
    [Coordinate interferometric system for measuring the position of a sample of the electron lithograph.]
    Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2015, s. 16-17. ISBN 978-80-87441-16-9.
    [LASER 55. Třešť (CZ), 21.10.2015-23.10.2015]
    R&D Projects: GA ČR GB14-36681G; GA TA ČR TA02010711; GA TA ČR TA01010995; GA TA ČR TE01020233; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : coherence optics * interferometry * coherent laser
    Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers

    Tento projekt se nazývá „Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie“. Řešitelem tohoto projektu je Vysoké učení technické v Brně/Fakulta strojního inženýrství a spoluřešitelé jsou ON Semiconductor Czech republic, s.r.o., Optaglio s.r.o., Tescan Brno, s.r.o. a Ústav přístrojové techniky AVČR, v.v.i.. V rámci tohoto projektu pracujeme na návrhu interferometrického odměřovacího systému, laserového zdroje a detekční techniky pro souřadnicové odměřování stolu elektronového litografu.

    This project is called "Platform of advanced microscopic and spectroscopic techniques for nano and microtechnology." The coordinator of this project is the Brno University of Technology / Faculty of Mechanical Engineering and the co-investigators are ON Semiconductor Czech Republic, Ltd., Optaglio Ltd., Tescan Brno, Ltd. And the Institute of Scientific Instruments of the CAS, v. v. i.. In this project we are working on a design of an interferometric measuring system, laser source and detection techniques for a coordinate measuring system of the table of the electron beam lithography.
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0250860

     
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.