Highly Sensitive Plasmonic Structures Utilizing a Silicon Dioxide Overlayer

Number of the records: 1

1.

SYSNO	0561882
Title	Highly Sensitive Plasmonic Structures Utilizing a Silicon Dioxide Overlayer
Author(s)	Chylek, J. (CZ) Maniaková, P. (SK) Hlubina, P. (CZ) Sobota, Jaroslav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Pudiš, D. (SK)
Corespondence/senior	Chylek, J. - Korespondující autor Hlubina, P. - Korespondující autor
Source Title	Nanomaterials. Roč. 12, č. 18 (2022). - : MDPI
Article number	3090
Document Type	Článek v odborném periodiku
Institutional support	UPT-D - RVO:68081731
Language	eng
Country	CH
Keywords	surface plasmon resonance * Kretschmann configuration * silicon dioxide overlayer * reflectance * aqueous analyte sensing
Cooperating institutions	Vysoká škola báňská – Technická univerzita Ostrava, Fakulta elektrotechniky a informatiky (Czech Republic) Žilinská univerzita v Žiline, Fakulta elektrotechniky a informačných technológií (Slovakia)
URL	https://www.mdpi.com/2079-4991/12/18/3090
Permanent Link	https://hdl.handle.net/11104/0335270

Number of the records: 1