Number of the records: 1
ECWR plazma zdroj
- 1.
SYSNO ASEP 0552141 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title ECWR plazma zdroj Title ECWR plasma source Author(s) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Poruba, A. (CZ)
Dolák, J. (CZ)Number of authors 5 Year of issue 2021 Int.Code FVMF3/FZU/2021 Technical parameters Vnější průměr vstupní části ECWR zdroje: 6 mm Vnitřní průměr vstupní části ECWR zdroje: 4 mm Vnější průměr pracovní části ECWR zdroje: 25 mm Vnitřní průměr pracovní části ECWR zdroje: 23 mm Economic parameters Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Registration Number of the result owner 68378271 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč License fee fee Z - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., FVMF3/FZU/2021 Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords electron cyclotron wave resonance ; minimal Fab ; low-temperature plasma ; ALD ; RF plasma Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics OECD category Fluids and plasma physics (including surface physics) R&D Projects TM01000039 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali plazmový zdroj založený na generaci elektronové cyklotronové vlnové rezonance (ve zkratce ECWR), který je optimalizovaný pro použití v Minimal Fab systému. Měření generovaného plazmatu prokázalo, že ECWR zdroj plazmatu je schopen generovat nízkoteplotní plazma v intervalu tlaků od 0,05 Pa až po 0,1 Pa. Dále ECWR zdroj je možné provozovat také v čistém argonu, dusíku, kyslíku nebo jejich směsích. ECWR zdroj plazmatu se vyznačuje vysokým stupněm ionizace plynu.
Description in English Within the TAČR project, we developed and implemented a plasma source based on electron cyclotron wave resonance (ECWR) that is optimised for use in the Minimal Fab system. Low-temperature plasma diagnostics of the generated plasma proved that the ECWR plasma source is able to generate low-temperature plasma in the pressure range from 0.05 Pa to 0,1 Pa. Furthermore, the ECWR source can also be operated in pure argon, nitrogen, oxygen gas or mixtures thereof. The ECWR plasma source is characterised by the high degree of gas ionisation. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2022
Number of the records: 1