Number of the records: 1  

Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém

  1. 1.
    SYSNO ASEP0537056
    Document TypeL - Prototype, Functional Specimen
    R&D Document TypePrototype, Functional Specimen
    RIV SubspeciesFunctional Specimen
    TitleOptimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém
    TitleOptimized surfatron plasma source for PE-ALD deposition system
    Author(s) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
    Kapran, Anna (FZU-D) ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Poruba, A. (CZ)
    Dolák, J. (CZ)
    Year of issue2020
    Int.CodeFVMF1/FZU/2020
    Technical parametersVnější průměr křemenné trubičky: 6 mm, vnitřní průměr křemenné trubičky: 4 mm, výstupní tryska: kónická tryska, typ surfatron: mosazný rezonátor typu SAIREM s integrovanou přizpůsobovací jednotkou.
    Economic parametersLaboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Owner NameFyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    Registration Number of the result owner68378271
    Applied result category by the cost of its creationA - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    License fee feeZ - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek
    Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no.,FVMF1/FZU/2020
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    Keywordsmicrowave surfatron ; MinimalFab ; low-temperature plasma ; ALD ; RF plasma
    Subject RIVBL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OECD categoryFluids and plasma physics (including surface physics)
    R&D ProjectsTM01000039 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271
    AnnotationV rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu ve dvou uspořádáních nazývaný surfatron vhodný pro použití v MinimalFab systému. Charakterizace generovaného plazmatu prokázala, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma v rozsahu tlaků 1 Pa až 200 Pa. Dále pak lze provozovat plazmový zdroj v čistém inertním plynu, kyslíku, dusíku nebo jejich směsích.
    Description in EnglishWithin the TAČR project, we developed and implemented a microwave plasma-jet source in two configurations called a surfatron suitable for use in the Minimal Fab system. Characterization of the generated plasma showed that the surfatron plasma source is able to generate low-temperature plasma in the pressure range of 1 Pa to 200 Pa. Furthermore, the plasma source can be operated in pure inert gas, oxygen, nitrogen or mixtures thereof.
    WorkplaceInstitute of Physics
    ContactKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Year of Publishing2021
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.