Number of the records: 1
Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém
SYS 0537056 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103225047.2 100 $a 20210107d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém 210 $d 2020 541 $a Optimized surfatron plasma source for PE-ALD deposition system $z eng 610 $a microwave surfatron 610 $a MinimalFab 610 $a low-temperature plasma 610 $a ALD 610 $a RF plasma 700 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0398682 $a Kapran $b Anna $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0017870 $a Poruba $b A. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0061624 $a Dolák $b J. $y CZ
Number of the records: 1