Number of the records: 1  

Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N

  1. 1.
    SYSNO ASEP0523530
    Document TypeP1 - Utility model, Industrial Design
    R&D Document TypeResults of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design)
    RIV SubspeciesUžitný vzor
    TitleKoloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N
    TitleColloidal diffuse source of phosphorus for preparing doped of the type N silicon
    Author(s) Mrázek, Jan (URE-Y) RID, ORCID
    Number of authors1
    Year of issue2019
    Publication formPrint - P
    Name of the patent ownerÚstav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.
    AdressChaberská 1014/57, 182 00 Praha 8, Kobylisy
    Date of the utility model acceptance10.06.2019
    Utility model number32924
    Licence feeZ - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek
    Current useA - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
    Use by another entityP - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence
    Code of the issuer nameCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Languagecze - Czech
    Keywordssemiconductor ; phosphorus ; colloid
    Subject RIVJA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
    OECD categoryElectrical and electronic engineering
    R&D ProjectsFV30151 GA MPO - Ministry of Industry and Trade (MPO)
    Institutional supportURE-Y - RVO:67985882
    AnnotationTechnické řešení se týká složení koloidního difuzního zdroje fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N
    Description in EnglishThe utility model relates to the composition of a colloidal diffusion source of phosphorus for the preparation of doped N-type silicon
    WorkplaceInstitute of Radio Engineering and Electronics
    ContactPetr Vacek, vacek@ufe.cz, Tel.: 266 773 413, 266 773 438, 266 773 488
    Year of Publishing2020
    Electronic addresshttp://hdl.handle.net/11104/0307886
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.