Number of the records: 1
The Influence of Surface Treatment and Activation of Thin film Composite Membranes with Plasma Discharge and Determination of Their Physicochemical Properties
SYS 0503667 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103221901.0 014 $a 85063105849 $2 SCOPUS 014 $a 000466250100007 $2 WOS 017 $a 10.1016/j.seppur.2019.03.050 $2 DOI 100 $a 20190328d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a GB 200 1-
$a The Influence of Surface Treatment and Activation of Thin film Composite Membranes with Plasma Discharge and Determination of Their Physicochemical Properties 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0255063 $1 011 $a 1383-5866 $e 1873-3794 $1 200 1 $a Separation and Purification Technology $v Roč. 220, AUG 1 (2019), s. 52-60 $1 210 $c Elsevier 610 $a gas permeability 610 $a membrane 610 $a perm-selectivity 700 -1
$3 cav_un_auth*0014635 $4 070 $a Slepička $b P. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0233769 $4 070 $a Setničková $b Kateřina $p UCHP-M $i Laboratoř separačních procesů E. Hály $j E. Hála Laboratory of Separation Processes $w Department of Bioorganic Compounds and Nanocomposites $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0346174 $4 070 $a Petrusová $b Zuzana $p UCHP-M $i Oddělení membránových separačních procesů $j Department of Membrane Separation Processes $w Department of Membrane Separation Processes $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0374058 $4 070 $a Slepičková Kasálková $b N. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0242866 $4 070 $a Kolská $b Z. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0049267 $4 070 $a Siegel $b J. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0252098 $4 070 $a Jansen $b J. C. $y IT 701 -1
$3 cav_un_auth*0303325 $4 070 $a Esposito $b E. $y IT 701 -1
$3 cav_un_auth*0283004 $4 070 $a Fuoco $b A. $y IT 701 -1
$3 cav_un_auth*0219973 $4 070 $a Švorčík $b V. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0103275 $4 070 $a Izák $b Pavel $p UCHP-M $i Oddělení membránových separačních procesů $j Department of Membrane Separation Processes $w Department of Membrane Separation Processes $z K $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 856 $9 RIV $u http://hdl.handle.net/11104/0295476
Number of the records: 1