Number of the records: 1
Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet
SYS 0308119 LBL 02453^^^^^2200385^^^450 005 20240103190036.8 014 $a 000254902600091 $2 WOS 100 $a 20080523d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet 215 $a 4 s. 300 $a ISSN:ISSN: 0094-243X 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0308118 $1 010 $a 978-0-7354-0512-7 $1 200 1 $a Plasma 2007 $v S. 427-430 $1 210 $a Melville, New York $c American Instritute of Physics $d 2008 $1 225 $a AIP Conference Proceedings $v 993 $1 702 1 $a Hartfuss $b H.-J. $4 340 $1 702 1 $a Dudeck $b M. $4 340 $1 702 1 $a Muslelok $b J. $4 340 $1 702 1 $a Sadowski $b M.J. $4 340 541 1-
$a Měření iontového toku na depoziční substrát u plazmové trysky s efektem duté katody $z cze 610 0-
$a hollow cathode 610 0-
$a plasma jet 610 0-
$a ion flux 610 0-
$a deposition of thin films 700 -1
$3 cav_un_auth*0098250 $a Virostko $b Petr $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1