Number of the records: 1
Modernizovaný elektronový litograf pro optické difraktivní struktury
- 1.0094701 - ÚPT 2008 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Horáček, Miroslav - Matějka, František - Kolařík, Vladimír
Modernizovaný elektronový litograf pro optické difraktivní struktury.
[Electron-beam writing system for diffractive optical elements.]
Internal code: 65701 ; 2006
Technical parameters: Urychlovací napětí elektronové trysky 15 kV.
Economic parameters: Elektronový litograf BS601M byl nainstalován ve firmě Optaglio v červenci roku 2006 kde nahradil obdobné zastaralé zařízení s horšími parametry.
Institutional research plan: CEZ:AV0Z20650511
Keywords : electron beam writing system * diffractive optical element
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0154449
Number of the records: 1