Number of the records: 1
Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
- 1.0523531 - ÚFE 2020 RIV cze P1 - User Module
Mrázek, Jan
Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P.
[Colloidal boron diffusion source for the preparation of doped P-type silicon.]
2019. Owner: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Date of the utility model acceptance: 30.09.2019. Utility model number: 33261
R&D Projects: GA MPO(CZ) FV30151
Institutional support: RVO:67985882
Keywords : semiconductor * boron * colloid
OECD category: Electrical and electronic engineering
Technické řešení se týká složení koloidního difuzního zdroje bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
The utility model relates to the composition of a colloidal diffusion source of boron for the preparation of doped P-type silicon
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0307887
File Download Size Commentary Version Access UFE 0523531.pdf 4 127.7 KB Publisher’s postprint open-access
Number of the records: 1